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一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造
一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造
发布时间:2020-12-13 来源:
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asml
光刻机工作原理及基本构造
在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机,光刻机同
时也是
精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术
与其它光刻技
术相比,具有生产率高、成本低、易实现高的对准和套刻精度、掩模制作相
对简单、工艺条件容
易掌握等优点,
一直是半导体芯片制造产业中的主流光刻技术。
目前,
国际上半导体芯片制造
生产线上的主流光刻设备是
248nm
(
KrF
)准分子激光投影光刻机,
并正在向
193nm
(
ArF
)
准分子激光投影光刻机过渡。荷兰
ASML
公司作为全球三大光刻
机集成生产商之一,
坚持不懈
地进行技术创新以增强其竞争力,在全球光刻机销售市场上
居于领先地位。
asml
光刻机工作原理
上图是一张
ASML
光刻机介绍图。下面,简单介绍一下图中各设备的作用。
测量台、曝光台:
是承载硅片的工作台。
激光器:也就是光源,光刻机核心设备之一。
光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平
行。
能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
光
束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。
遮光器:
在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。
能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。
掩模
版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。
掩膜台:承载掩模版运动的设
备,运动控制精度是
nm
级的。
物镜:物镜用来补偿光学误差,并将线路图等比例缩小。
硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。题外话,由于硅片是
圆的,
所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系,
根据缺口的形状不同分为两种,
分别叫
flat
、
notch
。
内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维
本文来源:
https://www.2haoxitong.net/k/doc/2b8eac427e1cfad6195f312b3169a4517623e54b.html
《一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造.doc》
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